公派留学回国人员讲堂037 高勇谦:微纳拉曼光谱和ALD材料改性技术应用研究
阅读次数: 发布时间:2018-06-06 更新时间:2019-01-14

公派留学回国人员讲堂037
高勇谦:微纳拉曼光谱和ALD材料改性技术应用研究
(先进材料研究院)
主讲人:高勇谦
时 间:2018年6 月7 日(周四)9:30
地 点:科技创新大楼C501
高勇谦老师2016年12月至2018年6月在美国新墨西哥大学/桑地亚国家实验室访学,师从John Grey和 Jing Yingbing教授从事维纳光谱和原子层沉积技术(ALD)材料设计和制备方面的研究。
